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プロジェクトの基本的性格
産学官の連携により5年以内の実用化・普及を目指し、比較的短期間の実用化による経済活性化の効果が見込まれる。
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研究開発成果の持つ経済活性化効果等(実用化された場合の社会・経済へのインパクトを含む)
世界の半導体産業が凌ぎを削る先進半導体製造技術における、最先端細線化の中核となるリソグラフィー用EUV光源開発等の実用化プロジェクトの実施により、世界の半導体市場(約20兆円)における国際的優位性の確保が期待できる。 製造機器市場開拓及び加工業の競争力強化等の観点からも大きな経済効果が見込まれる。
また、本課題の基盤をなす高性能レーザー技術等は普遍性の高い技術であり、分野融合領域(医療分野等)への新しい産業基盤の提供等の大きな波及効果が見込まれる。
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研究開発成果の目標とスケジュール
本課題は、企業による商品化を目指すものであるが、本分野は世界的に競争が激しい分野でもあるので、我が国においても乗り遅れることなく取組みを進めていく必要がある。
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大学等と産業界の役割
本課題で必要となる高性能レーザー、水素負イオンビーム技術等は、参加大学、特殊法人等が既に独自の特許を数多く保持又は特許出願中であり、本課題の推進にはこれらの技術を十分に活用できる。 本課題は、大学及び特殊法人のシーズを産業界と連携して実用化につなげる試みであり、これまで行われてきたような断続的な取組みに比べて高い成果が見込まれる。
また、キヤノン、浜松ホトニクスをはじめとする産業界からの人的及び資金的貢献が表明されているとともに、研究成果の実用化の段階は当該民間企業が担当する見通しである。
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政府部内における既存制度における研究開発課題及び他経済活性化プロジェクトとの関係
極端紫外(EUV)光源開発に際して、経済産業省が行う装置化・システム化技術との強力な連携の下で役割を分担し開発を実施することは効果的であり、必要である。
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