資料3　半導体製造メーカーからの見解（事務局ヒアリング概要）

○　国内の半導体需要は拡大傾向にあり、また研究炉を活用した中性子照射が最も高品質な半導体の製造手法ではあることは事実。
○　しかしながら、この製造法は研究炉の運転に左右されるため供給が不安定であり、かつ大量生産への対応は難しい。
○　更に近年は、半導体メーカーによる他の半導体製造手法の技術開発が進んだこともあり、中性子照射による半導体製造は下げ止まっている。
○　また、国際的にも供給過多の傾向にあり、海外の研究炉からの輸入コストも安くなっている。
○　したがって半導体製造の観点からは、国内の研究炉は不安定な供給状況をカバーするためにピンチヒッター的には使えると考える。
○　一方で、研究炉を活用した放射化分析に関しては需要がある。スピード重視になるので、国内で迅速に行いたい。