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審議の経過

第1回 JMTR利用検討委員会
1. 日時
  平成17年11月10日(木曜日) 15時〜17時

2. 場所
  日本原子力研究開発機構 東京事務所第1会議室(12階)

3. 議事
 
(1) 本委員会の設置についての説明、本委員会での検討事項の質疑。
(2) 世界における材料試験用原子炉の役割と現状及びJMTRとその利用状況、照射後試験施設の状況等についての検討。
(3) JMTR将来計画検討委員会報告書の概要についての説明及び利用ニーズの状況等の検討。

第2回 JMTR利用検討委員会
1. 日時
  平成17年12月6日(火曜日) 11時30分〜12時20分

2. 場所
  日本原子力研究開発機構 大洗研究開発センター技術開発棟TV会議室

3. 議事
 
(1) 第1回JMTR利用検討委員会議事録(案)確認。
(2) 日本原子力学会における照射試験施設の利用に関する調査結果の説明及び照射炉の利用環境等の検討。
(3) シリコン半導体の製造の現状と将来展望及びRIの製造の現状と将来展望についての説明及び検討。

第3回 JMTR利用検討委員会
1. 日時
  平成17年12月27日(火曜日) 15時〜15時30分

2. 場所
  日本原子力研究開発機構 東京事務所第1会議室(12階)

3. 議事
 
(1) 第2回JMTR利用検討委員会議事録(案)確認。
(2) 材料試験用原子炉の利用のあり方、利用性向上に関する検討。
(3) 照射後試験施設の活用についての検討。

第4回 JMTR利用検討委員会
1. 日時
  平成18年3月23日(木曜日) 16時30分〜17時40分

2. 場所
  日本原子力研究開発機構 東京事務所第1会議室(12階)

3. 議事
 
(1) 第3回JMTR利用検討委員会議事録(案)確認。
(2) JMTR利用検討委員会報告書(案)の検討。


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