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3．今後のカビ対策に向けて

1． カビ対策ネットワークの構築に向けて
  2．1．及び2．で述べたように、「カビ対策マニュアル」の作成や、「カビ対策研修会」の実施、カビ対策に関する相談窓口の開設等を通じたカビ対策ネットワークは、カビ対策をはじめとする文化財等の保存科学全般に関する人材の育成に大きな役割を果たすことが期待されることから、早期にその構築を図ることが求められる。
　人材育成に関しては、基本は大学等におけるカビをはじめとする微生物の基礎科学や保存科学に関する科目、講座等の充実であり、カビ対策としては、まずは博物館等に在籍している学芸員や司書等の専門的職員が大学等で現場に即した学習ができる機会を拡充することが必要であろう。その際、各大学等において微生物学や保存科学に関する科目、講座等の社会人枠を設けたり、通信教育を行ったりするようになれば、より有効であると思われる。また、「カビ対策研修会」の実施に際しては、修了証の発行等受講生の動機付けとなるような工夫が必要であり、微生物や保存科学に関する科目、講座等を設けている大学等の有効活用が重要である。
　さらに、カビ対策に関する人材の裾野を広げるためには、幅広く社会に向けての啓発活動や情報提供を行うことも重要であり、一般向けの講演会や、博物館等におけるカビに関する特別展の開催、大学院生や企業研究員等を対象としたワークショップの開催等も効果的であろう。
　いずれにせよ、コアとなる拠点がなければ長期的な視野に立った人材育成は進まないことから、カビ対策に関する相談窓口の早期開設や、安定的・長期的な研究の実施に向けた環境整備等が求められる。その上で、博物館等の関係者とカビをはじめとする微生物学や保存科学関係の専門家・専門団体との連携が図られ、両者の有機的な協力関係が構築されれば、カビ対策ネットワークは所期の目的を達成することができるものと思われる。
2． カビ劣化の実態等に関する調査研究の促進
　博物館、美術館、図書館等におけるカビ劣化の実態については、そもそもデータの蓄積が十分ではないため、まずは展示室や収蔵庫等の場所や区域ごと、あるいは収蔵されている作品の材質等の区分ごとにデータの蓄積を進め、長期的観点に立った調査研究により、問題点を整理・抽出していくことが必要であろう。
　また、将来的にカビ対策に関する相談窓口等を通じて得られた情報を、定型の調査票によって蓄積し、写真等とともにデジタル・アーカイブ化して、ウェブサイト上で公開できるようにしていくことが望まれる。また、公開データをもとに「カビ対策マニュアル」の充実が図られ、ひいては施設管理対策の向上につながることが期待される。
3． カビ制御技術・方法の確立に向けた取組の推進
　対象物としての文化財や学術資料等には、特殊性と多様性がある。とりわけ、対象の物性が不均一であることから、カビ制御に際しては、多くの新技術について個々の部分における制御効果を評価するだけでなく、保管条件下での長期的な効果持続性の有無、素材や原料等の劣化を起こすネガティブな影響等を十分に考慮した上で、総合的な制御設計を行うことが重要であり、そのためには十分な試験研究を重ねることが必要である。また、有害微生物の制御は単に個々の技術を適用することだけで片付けられるものではなく、人体に対する安全性や地球環境の保全に関わる問題についても、これまで以上に考慮していかなければならない。特に、ガス殺菌剤（エチレンオキシド（EO）、ホルムアルデヒド等）、有機系抗菌剤等の化学的制御に用いる薬剤については、毒性や環境対応が大きな課題となっており、慎重な取り扱いが必要である。
　さらに、最近発展してきた予測微生物学を用い、微生物の増殖や死滅を数学的なモデルで表す試みを予防措置として導入するためには、例えばバイオフィルムの形成のような文化財や学術資料等を対象に起こる基礎的な現象・問題の解決が前提となる。
　医薬品・食品分野では、原材料から製品の流通までの各段階において、GMP（Good Manufacturing Practice；適正製造基準）やHACCP（Hazard Analysis Critical Control Point；危害分析・重点管理点（監視）方式）のような一般的な微生物管理プログラムに医薬品・食品の生産に関する安全性の確保への対応が含まれているが、文化財や学術資料等に関しても、新しい制御方法が確立された段階で、微生物管理に関するガイドラインを制度化するとともに、微生物とその危害についての知識をわかりやすく説明するための幅広い情報発信活動を行い、微生物的安全性についての社会的意義を高めていくことが望ましい。
　なお、2007年4月1日より、東京文化財研究所はその母体である独立行政法人文化財研究所が独立行政法人国立博物館と統合し、「独立行政法人国立文化財機構」の一組織となるが、文化財等の保存・修復に関する研究の必要性は、今後とも減ずることはなく、ますます重要となってくることから、新しい組織においても文化財等の保存科学のさらなる充実を図るための機能強化が求められる。
4． 各博物館等及びその設置者における「施設環境管理指針」の策定に向けた取組の推進
  別紙に試案として示したように、今後、各博物館等の現場において、知見の蓄積に応じて「施設環境管理指針」を策定し、絶えず評価と見直しを行っていくことが必要であり、改善を積み重ねることによって、よりよい施設環境にしていく努力が求められる。
　この「施設環境管理指針（試案）」は、一般的なガイドラインの試案を示しているものであり、各博物館等及びその関連団体等においては、保存科学関連の専門家・専門団体と連携することによって、館種のほか、周囲の環境や施設設備の状況、収蔵品の性格・特性等に応じた具体的な細目を検討し、試験検査機関による環境微生物調査と一体になった自主管理体制を確立していくことが求められる。さらに、環境微生物調査の検査技術の向上も不可欠であり、精度管理の導入も今後の課題の一つであろう。
　そのためには、2．で述べたカビ劣化の実態等に関する調査研究の促進が不可欠であり、3．で述べたカビ制御技術・方法の確立に向けた取組と併せて、その結果を逐次反映していくことが重要であろう。
5． 事故対策への取組
　本研究会においては、文化財等に「カビを増殖させない」ことを基本とし、カビをはじめとする微生物の発生を予防するための施設環境の整備やカビ制御技術の適用を中心に検討を行ってきた。しかし、不幸にして汚染し、カビ増殖等の事故が発生した場合には、そのための対策が別途必要となってくる。今後、そうした事態に対する措置のあり方についても知見を集め、事例集やマニュアル等を作成するなどの取組が、早急に開始されることを強く期待する。
  2．2．（3）でも述べたように、文化財等を適切に保存・管理する立場にある博物館等にとっては、カビ被害を他に知られたくないとの感情から、事故事例を公表しない場合も十分に考えられるが、こうした事故事例を将来の教訓として蓄積・整理し、その際の処理と対策をレポートにまとめて活用することも重要である。こうしたことを共通の認識としつつ、文化財等が国民のかけがえのない宝として適切な環境の下で保存され、将来の世代に受け継がれていくよう、関係者が一丸となって取り組むことが求められる。


別紙

施設環境管理指針（試案）

1． 施設内の区画
1） 　資料受入れ場から資料保管場まで以下の区域に分ける。
区分 場所の例
汚染区域 資料受入れ場（搬出入口等）
資料処理場（展示準備室等）
資料展示場（展示室）
準清潔区域 資料一時保管場（一時保管庫、写場、研究室等）
資料展示場展示ケース内
清潔区域 資料保管場前室（収蔵庫前室）
資料保管場（収蔵庫）
2） 　各場所は隔壁等により区画されていること。
3） 　床、内壁、天井は平滑で隙間がなく、清掃が容易に行える構造であること。
4） 　準清潔区域及び清潔区域の内壁及び天井はその表面に耐湿性及び耐熱性の材料を用いるとともに、断熱材を併用するなど、結露の発生を防止できる構造であることが望ましい。また、調湿建材並びに無機系抗菌剤又は有機系防カビ剤で加工した建材の使用はカビ対策として有効である。
5） 　清潔区域は前室、エアーシャワー等を設置し、外部からの空気の流入、微生物の侵入を防ぐ設備を設けること。
6） 　清潔区域前室には、着替え、履き替え等ができる設備及び粘着マットを設けること。
7） 　清潔区域はクリーンルーム（HEPAフィルターを介した空気の流入、陽圧状態を保てる設備等）であることが望ましい。

2． 清浄度の計測と評価
　各区域は防塵、清掃、殺菌、除菌等の措置により、室内環境を清潔に保ち、空気中の落下菌数、浮遊菌数及び壁面、棚、床面、器材等の表面付着菌数を極力少なくすること。（注1）
　清浄度の計測（試験方法は末尾参照。）は毎月始業前に行うことが望ましく、その基準値を以下に示す。いずれの場合においても、基準値を上回る場合は清掃、空調フィルターの交換、殺菌等の措置を講じること。
区域 落下細菌数
（5分あたりの個数）（注2）		 落下真菌数
（20分あたりの個数）（注3）		 浮遊細菌数
（100リットルあたりの個数）（注4）		 浮遊真菌数
（100リットルあたりの個数）（注5）		 付着細菌数
（25平方センチメートルあたりの個数）（注6）		 付着真菌数
（25平方センチメートルあたりの個数）（注7）
汚染区域 100以下   100以下   100以下 30以下
準清潔区域 50以下 30以下 40以下   30以下 10以下
清潔区域 30以下 10以下 10以下 5以下    
※ 　数値は、アメリカ航空宇宙局（NASA（ナサ））の定める空気清浄度クラスに対応しており、清潔区域はNASA（ナサ）基準の清浄度100,000にほぼ対応する。

3． 施設内の空調管理と調湿設計
　各場所には十分な能力を有する次のような換気設備及びその付帯設備が設けられていること。
1 　換気設備は汚染区域の空気が清潔区域及び準清潔区域に流入しないように配慮して配置されていること。また、排気口は強風等による外部からの汚染された空気の流入を防ぐ構造であることが望ましい。
2 　準清潔区域、清潔区域は空気調和機（空調機）、空気清浄機などの設置、防湿・調湿建材の使用により適切な温湿度を維持する必要がある。適切な温湿度とは温度25度で相対湿度50パーセント以下、温度20度以下で相対湿度65パーセント以下である。
3 　資料保管場には必要に応じ、さらに厳密に温度、湿度、酸素濃度等を制御できる収納箱等が設置されていること。

4． 資料の保管及び収納
1） 　資料受入れ場、資料一時保管場には資料を直接床面に接触させないように、棚、スノコ等が設置されていること。
2） 　資料はその特性、重要度等により適切な方法で保管すること。収納箱等で分別収納する場合も防湿あるいは調湿材、防カビ剤等の使用により、効果的にカビの生育を抑制することが望ましい。

5． 施設、設備の管理（注8）
1） 　施設設備は必要に応じて補修を行い、定期的に清掃し、常に清潔に保つこと。なお、掃除機を用いる場合はHEPAフィルター付の機種を使用し、集塵時に埃が浮遊しないよう注意する。
2） 　施設において、ねずみ、昆虫等の存在又はそれらの繁殖源が確認された場合は、直ちに駆除、殺虫作業を実施し、それらの繁殖源を撤去するとともに再発防止対策を講じること。
3） 　施設、設備にカビの生育を認めた場合、環境中への胞子の拡散に十分配慮し、適当な薬液（塩化ベンザルコニウム等の消毒剤）を含ませたガーゼ、脱脂綿等で表面を殺菌する方法等により十分殺菌した後、再発防止対策を講じること。
4） 　施設の出入口は出入等やむを得ない場合以外は閉めておくこと。
5） 　手洗い設備には、手指を清潔にするための石けん、ペーパータオル、塩化ベンザルコニウム等の消毒液などを常備し、手洗いに支障のないようにすること。
6） 　機械、器具類は常に点検を行い、故障、破損等がある場合は速やかに補修し、使用できる状態に整備しておくこと。
7） 　天井及び内壁は定期的に清掃すること。
8） 　換気扇、空調設備（ダクト、配管類、フィルターを含む。）は定期的に清掃又は交換（フィルター等）し、記録すること。
9） 　天井及び内壁に露出した配管、配線等は定期的に清掃し、記録すること。
10） 　清潔区域及び準清潔区域は自記温湿度記録計を用いて温度及び湿度を測定・記録し、できればモニタリングシステムの導入を図ることにより1日に1回以上確認すること。

6． 施設内の殺菌、除菌
1） 　施設内は必要に応じ殺菌、除菌する必要がある。空気清浄機、循環式紫外線殺菌装置、オゾン殺菌装置など室内環境の殺菌手段を適用する。
1 　空気清浄機
　装着フィルターにはHEPAフィルター、抗菌加工フィルター、防カビ加工フィルター、光触媒フィルター等殺菌・除菌が可能なものを使用する。また、一定の頻度でフィルターの交換を行う。
2 　紫外線殺菌装置
　空調機の空気吹き出し口等、空気の流入する箇所を中心に設置し、直接照射方式又は反射板付照射方式により殺菌する。室内空間への殺菌空気の循環を図るための装置があればさらに有効である。紫外線が資料に直接当たらないように注意するとともに、殺菌灯の点灯中は人体への影響を考慮し、夜間点灯等の配慮が必要である。また、殺菌灯には寿命があるため定期的に交換する必要がある。
3 　オゾン殺菌装置
　オゾンガスによる資料劣化が認められない資料についてはオゾン殺菌装置が有効である。夜間等、人が立ち入らない時間に低濃度（10ppm（パーツパーミリオン））のオゾンガスで、約12〜15時間の長時間殺菌を行う。殺菌中は人の立ち入り、酸化作用による資料劣化に注意が必要である。なお、高濃度のオゾンガスで室内全体を燻蒸殺菌する場合は目張りを行うなど、オゾンガスが漏れることを防ぐための配慮が必要である。

7． 清潔区域への入室時等の注意点
1） 　専用の着衣に着替える。
2） 　専用の作業靴等に履き替える。
3） 　粘着マット、粘着ローラー等を用い、埃等の持込みを防ぐ。
4） 　必要に応じ、マスク、手袋を着用し、素手の場合は手洗い、手指の消毒を徹底する。
5） 　退室時は、上記の着衣、作業靴、マスク、手袋等を清潔に保管した後、退室する。

（注1） 　汚染度の目安
　付着細菌数の結果による汚染度の目安（判定基準の一例）を以下に示す。
汚染度 付着細菌数
0（良好） 0
1（極軽度の汚染） 1〜10
2（軽度の汚染） 11〜100
3（中等度の汚染） 101〜1,000
4（著しい汚染） 1,001以上

（注2） 　落下細菌数
　トリプトソイ寒天培地を直径90ミリメートルの滅菌ペトリ皿に注ぎ、固化させたものを試験平板とする。試験平板を測定場所の中央及び四隅に置き、ふたを開放した状態で5分間露出させ、再びふたを被せる。この試験平板を倒置した状態で30度、3日間培養後、生育した集落数を計測、平均し、落下細菌数とする。
（注3） 　落下真菌数
　ポテトデキストロース寒天培地（クロラムフェニコールを100mg/L（ミリグラム毎リットル）添加）を直径90ミリメートルの滅菌ペトリ皿に注ぎ、固化させたものを試験平板とする。試験平板を測定場所の中央及び四隅に置き、ふたを開放した状態で20分間露出させ、再びふたを被せる。この試験平板を倒置した状態で25度、7日間培養後、生育した集落数を計測、平均し、落下真菌数とする。
 
衝突型エアーサンプラーの一例。
採取場所で浮遊しているカビの種類と量から、空気の流れや汚染状況を評価する。		 室内で比較的よく見られるペニシリウム・シトリナムの集落。
ポテトデキストロース寒天培地は、集落の形状、色などから同定に関する情報を得ることのできる利用例の多い標準的な培地である。

（注4） 　浮遊細菌数
　衝突型エアーサンプラー又はろ過型エアーサンプラーを用い、測定場所の中央及び四隅における空気を吸引する。吸引量は100リットル（清浄度が高いエリアなどは必要に応じ100リットル以上）とする。
　衝突型エアーサンプラーの場合は設置したトリプトソイ寒天平板培地を、ろ過型エアーサンプラーの場合はろ過後のフィルターをトリプトソイ寒天平板培地に貼付し、30度、3日間培養後、生育した集落数を計測し、100リットル当たりの浮遊細菌数に換算する。
（注5） 　浮遊真菌数
　衝突型エアーサンプラー又はろ過型エアーサンプラーを用い、測定場所の中央及び四隅における空気を吸引する。吸引量は100リットル（清浄度が高いエリアなどは必要に応じ100リットル以上）とする。
　衝突型エアーサンプラーの場合は設置したポテトデキストロース寒天平板培地（クロラムフェニコールを100mg/L（ミリグラム毎リットル）添加）を、ろ過型エアーサンプラーの場合はろ過後のフィルターをポテトデキストロース寒天平板培地（クロラムフェニコールを100mg/L（ミリグラム毎リットル）添加）に貼付し、25度、7日間培養後、生育した集落数を計測し、100リットル当たりの浮遊真菌数に換算する。
（注6） 　付着細菌数
　スワブ（滅菌綿棒又は滅菌ガーゼ等を回収液で湿らせたもの）を用い、測定場所の一定面積をふきとり、滅菌リン酸緩衝生理食塩水等に付着菌を分散させる。この分散液（回収液）についてトリプトソイ寒天培地を用いた混釈平板培養法（30度、3日間培養）により1ミリリットル当たりの生菌数を測定し、25平方センチメートル当たりの付着細菌数に換算する。必要に応じスワブではなくコンタクトプレート（トリプトソイ寒天培地）を用いてもよい。
（注7） 　付着真菌数
　スワブ（滅菌綿棒又は滅菌ガーゼ等を回収液で湿らせたもの）を用い、測定場所の一定面積をふきとり、滅菌リン酸緩衝生理食塩水等に付着菌を分散させる。この分散液（回収液）についてポテトデキストロース寒天培地（クロラムフェニコールを100mg/L（ミリグラム毎リットル）添加）を用いた平板塗抹培養法（25度、7日間培養）により1ミリリットル当たりの生菌数を測定し、25平方センチメートル当たりの付着真菌数に換算する。必要に応じスワブではなくコンタクトプレート［ポテトデキストロース寒天培地（クロラムフェニコールを100mg/L（ミリグラム毎リットル）添加）］を用いてもよい。
（注8） 　消毒剤の対象別使用濃度
対象 消毒剤 使用濃度
手指 クロルヘキシジン（5パーセント） 0.1〜0.5パーセント（10〜50倍）
クロルヘキシジン（20パーセント） 0.1〜0.5パーセント（40〜200倍）
塩化ベンザルコニウム（10パーセント） 0.05〜0.1パーセント（100〜200倍）；30秒以上
塩化ベンゼトニウム（10パーセント） 0.05〜0.1パーセント（100〜200倍）；30秒以上
両性界面活性剤（10パーセント） 0.05〜0.2パーセント（50〜200倍）；5分
壁面、床面等 クロルヘキシジン（20パーセント） 0.05パーセント（400倍）；清拭、噴霧
塩化ベンザルコニウム（10パーセント） 0.05〜0.2パーセント（50〜200倍）；清拭、噴霧
塩化ベンゼトニウム（10パーセント） 0.05〜0.2パーセント（50〜200倍）；清拭、噴霧
両性界面活性剤（10パーセント） 0.05〜0.2パーセント（50〜200倍）；清拭、噴霧

※ 　上記（注1〜7）の環境微生物評価試験法等は、「第15改正日本薬局方解説書（2006）」、食品の衛生規範、「衛生試験法・注解2005」等に準拠し、（注8）の消毒剤については、「第15改正日本薬局方解説書（2006）」に準拠してまとめたもので、施設の環境微生物調査の実施及び清浄化の参考に供するため示すものである。

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