（別紙2）XFELが発振するX線レーザーの仕様

利用可能年度（計画）

平成23年度～

平成23年度～

波長 (基本波)

0.06 ～ 0.4 nm

1.5 ～ 4 nm ^*5

エネルギ ーバンド幅 (DE/E)

10^-3

10^-2

パルス幅

～30 fs

～100 fs

繰り返し数

60 Hz

60 Hz

ピーク輝度

1032

1022

ビームサイズ（試料位置）

～0.1 mmφ ^*3

～1 mmφ

　　　　　　　　（集光後）

1 umφ ^*4

-

二結晶分光器

波長範囲: 0.04～0.3 nm (4 ～30 keV)

分解能: 1e-4 (Si 111)

ダブルミラーA

波長範囲: >0.08 nm (< 15 keV)

ダブルミラーB

波長範囲: >0.15 nm (< 8 keV)

固体アッテネータ

最大減衰率: 1e-3以下

ガスアッテネータ

最大減衰率: 1e-2以下

パルスシャッタ

分周･任意パルスの切り出し

アライメントHeNeレーザー

XFEL光軸の可視化

精度0.5 mm

フォイル散乱型ビームモニタ

入射光強度: 1e8～1e12 photons/pls

位置精度: 7ミクロン以下

ガス散乱型ビームモニタ

入射光強度: 1e9～1e12 photons/pls

スクリーンモニタ

CeYAG / B-doped Diamond

EH1

6×7×4

EH2

7×7×4

EH3

7×7×4

EH4

8×7×5

CPA

波長: 800 nm

出力: 2.5 mJ

パルス幅: 25 fs

OPA

波長: 0.24～2.5 um

パルス幅: 100 fs

MP-CCD (1素子)

ピクセル数: 1024 x 512

ピクセルサイズ 50 um x 50 um

最大フレームレート: 60 fps

MP-CCD (2素子)

ピクセル数: 1024 x1024

ピクセルサイズ 50 um x 50 um

最大フレームレート: 60 fps

MP-CCD (8素子)

ピクセル数: 2048 x 2048

ピクセルサイズ 50 um x 50 um

最大フレームレート: 60 fps

中心開口サイズ可変

PINフォトダイオード

サイズ: 10 mm×10 mm

有感層厚み: 300 um

モニター用カメラ

ピクセル数: 640 x 480

ピクセルサイズ 7.4 um x 7.4 um

最大フレームレート: 110 fps

高精度カメラ

ピクセル数: 1920 x1080

ピクセルサイズ 5.5 um x 5.5 um

最大フレームレート: 66 fps

汎用集光ミラーシステム

集光サイズ: ～1ミクロン

ワークディスタンス: 400mm以上

コヒーレント回折イメージング基盤装置

透過配置･反射配置

超高真空対応

サンプル駆動用精密ステージ

磁気スペックル測定用装置

鉛直回転軸2軸ゴニオメータ

超高真空対応

電磁石搭載可

生体単粒子用クライオ試料固定照射装置

クライオトモグラフィ装置

高精度高速並進･回転ステージ

BL3

波長範囲: >0.06 nm (非集光時)

>0.1 nm (集光時 検討中)

アンジュレータ放射光

0.05 ～ 0.12 nm

高精度同期用タイミング信号

発振方式

SASE方式

波長

60 nm

エネルギー分散

10^-3

パルス幅

～　1 ps

繰り返し数

60 Hz

ピーク輝度 ^*1

＞　10²

ビームサイズ（試料位置）

＞ 0.5 mmφ

光子数密度　（試料位置）

～10¹² photons/pulse/mm

波長

0.05-0.2 nm

0.05-0.2 nm

0.05-0.12 n

エネルギーバンド幅 （DE/E）

10^-4

10^-4

10^-4

パルス幅

～　40 ps

～　40 ps

～　40 ps

繰り返し数

500 MHz

500 MHz

500 MHz

ビームサイズ（試料位置）

＞ 0.5×1.0 mm²

＞10.0×40.0 mm²

＞ 0.5×1.0 mm²

全光子数　（試料位置）

～3×10¹³ photons/sec

～3×10¹³ photons/sec

～10¹⁴ photons/sec