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第3部   政府の施策
第3章  政府機関などにおける研究活動の推進
5.  創造的研究開発の推進
(3)  次世代産業基盤技術研究開発制度



(1) 経緯

現在,我が国の技術水準は,先進工業国の平均的水準に達し,鉄鋼,自動車,電機産業などの技術分野では,世界のトップレベルにあるものも生まれている。しかし,これは戦後欧米先進工業国との技術格差を埋めるため,先進国から積極的に技術導入を図り,改良,改善を進めてきた成果であり,革新的な独自の技術を開発するという創造的研究開発という面ではまだ欧米先進国に立ち遅れていると言える。

今後,資源に乏しい我が国がその脆弱性を克服するためには,次世代に発展が期待できる航空・宇宙,情報処理,バイオインダストリー等の次世代産業の確立に必要不可欠な基盤技術の研究開発を特に推進し,欧米先進国に比べ遅れをとっていると言われる我が国の基盤技術水準を早急に引き上げる必要がある。しかし,このような基盤技術の開発は,その波及効果が大きく国民経済上も要請が強いとは言え,その開発には膨大な資金と長期間を要し,多大なリスクを伴うことから,通商産業省においては,このための施策として,計画的かつ効率的な研究開発方式の下に,民間のポテンシャルも積極的に活用する「次世代産業基盤技術研究開発制度」を昭和56年度に創設した。

本制度発足後8年目を迎え,ほとんどのテーマについて第3期計画の研究開発を推進しており,成果も着実にあがりつつある。


(2) 制度の概要

新材料,バイオテクノロジー,新機能素子及び超電導の4分野において,理論的ないし実験的に革新的な産業技術の実用化の可能性を明らかにされた(双葉の段階)テーマを選び,これについて産業技術の実用化のめどがつく(若木の段階)まで研究開発を行うこととしている。また,効率的に研究開発を進めるため,複数の研究開発方式を同時に進める並行開発方式を採用するとともに,長期(10年程度)にわたる全体計画を数年ごとに3段階程度に区切ってそれぞれの段階に一定の目標を設け(段階別目標設定方式),各段階ごとに研究開発状況や成果を評価して最適な開発方式を選択していくこととしている。

第3-3-13表 次世代産業基盤技術研究開発制度の対象となる研究開発テーマ の概要と昭和63年度予算額




本制度は,産業界,学界,国(国立試験研究所)の三者の協力により進めることとし,産業界のポテンシャルを活用するため民間企業等へ委託するとともに,国立試験研究所もその実績を生かして研究開発を行うほか,研究内容により大学等にも協力を求めている。


(3) 研究開発プロジェクトの概要

本制度で研究開発を進めている14テーマの概要及び63年度予算額は 第3‐3-13表 のとおりである。


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