写真2　ナノピット発光素子

(100)面シリコン基板に異方性エッチング技術でナノメーターオーダーの逆ピラミッド型のピットアレイを形成。これに酸化亜鉛薄膜を成膜後、CMP（機械化学研磨）技術により原子レベルに限りなく近く表面平坦化処理する。ナノピットの蛍光発光の確認は電子線を照射して行った。